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真空热压炉OTF-1200X-VHP4

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产品简介:真空热压炉OTF-1200X-VHP4是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具,在5T压力下可键合多层基片。本机可以加热到1100 ℃,并设有30段控温程序。

控温仪表操作视频


产品型号

真空热压炉OTF-1200X-VHP4

安装设备

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)。

3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)

5、通风装置:需要

主要特点

1、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和洁净度,同时延长使用寿命。

2、石英管两端设有带水冷的法兰。

3、在石英管内真空环境下,通过底部可调整弯管移动液压柱,将压力传输到模具。

技术参数

1、输入电源:AC 220V 50Hz/60Hz   6KW

2、输出功率:2.2KW

3、石英管:外径100mm,内径95mm,长Ø25mm

9、可移动行程:15mm

10、最大压力:6T(压力表显示10MPa

12、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

产品规格

尺寸:1050mm×750mm×1750mm;重量:365kg

可选配件

1冷水机

3、耐高温压力模具

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