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磷化铟(InP)晶体基片

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产品名称:

磷化铟(InP)晶体基片

 

技术参数:

单晶 InP 掺杂 None;Sn;S;Fe:Zn 硬度 3.0莫氏硬度 密度 4.78 g/cm3 导电类型 N;N;N;Si;P 折射率 3.45 载流子浓度cm-3 1-2x1016     1-3x10181-4x1018     .6-4x1018 位错密度cm-2 <5x104 生长方法 LEC 温度 1072℃ 弹性模量 7.1E11dyn  Cm-2
产品规格:

标准尺寸:<100>, dia2"x0.5mm,单抛;

          <100>, 10x10x0.5mm,单抛;

表面粗糙度Ra:<15A

注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。

标准包装: 1000级超净室,100级超净袋封装
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